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參考中國(guó)報(bào)告網(wǎng)發(fā)布《2016-2022年中國(guó)玻璃加工機(jī)械產(chǎn)業(yè)運(yùn)營(yíng)現(xiàn)狀及十三五未來(lái)前景分析報(bào)告》 1、行業(yè)技術(shù)水平 （1）玻璃薄化技術(shù)水平 FPD 光電玻璃薄化技術(shù)分為物理研磨薄化技術(shù)和化學(xué)蝕刻薄化技術(shù)。 化學(xué)蝕刻薄化技術(shù)是利用氫氟酸化學(xué)溶液（HF）與玻璃基板表面的二氧化硅進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)而使其溶解的原理，對(duì)面板進(jìn)行咬蝕而將玻璃厚度變薄?，F(xiàn)有化學(xué)蝕刻薄化方式主要有四種，分別是多片直立浸泡式、單片水噴灑平式、單片直立噴灑式、瀑布流式，四種化學(xué)蝕刻薄化方式各有優(yōu)缺點(diǎn)且在實(shí)際生產(chǎn)中都有所應(yīng)用，其圖示及主要優(yōu)缺點(diǎn)如下：  資料來(lái)源：公開(kāi)資料整理 物理研磨薄化技術(shù)主要指機(jī)械設(shè)備拋光方式，通過(guò)使用拋光粉加純水形成拋光液的加工介質(zhì)，在一定的壓力下流經(jīng)機(jī)臺(tái)盛盤(pán)與面板之間，借機(jī)臺(tái)運(yùn)轉(zhuǎn)做相對(duì)運(yùn)動(dòng)，使硬質(zhì)磨粒直接接觸面板表面進(jìn)而切削面板表面厚度。本制程利用此原理做短時(shí)間拋光以削減表面?zhèn)郏瑢⒚姘灞砻嫫焚|(zhì)最佳化。  資料來(lái)源：互聯(lián)網(wǎng) 化學(xué)蝕刻與物理研磨兩種FPD 光電玻璃薄化技術(shù)優(yōu)缺點(diǎn)如下：  資料來(lái)源：公開(kāi)資料整理 物理研磨薄化方式對(duì)液晶面板進(jìn)行薄化處理雖然可行，但由于需要薄化的通常為大張基板，物理研磨方式顯然不符合要求。通常，物理研磨薄化技術(shù)為化學(xué)蝕刻薄化技術(shù)的補(bǔ)充，在面板經(jīng)過(guò)化學(xué)蝕刻后產(chǎn)生表面劃傷時(shí)，再使用此方式。 目前，玻璃薄化主要以化學(xué)蝕刻為主，輔以物理研磨的方式對(duì)蝕刻后的玻璃表面進(jìn)行修復(fù)。 （2）鍍膜技術(shù)水平 ①ITO 鍍膜 國(guó)際上ITO 鍍膜技術(shù)主要有平面磁控濺射技術(shù)、化學(xué)氣相沉積技術(shù)、真空蒸鍍技術(shù)、卷繞鍍膜技術(shù)等技術(shù)類型?；瘜W(xué)氣相沉積技術(shù)主要應(yīng)用于制造半導(dǎo)體產(chǎn)品中的薄膜材料；真空蒸鍍主要用于光學(xué)薄膜的鍍制；卷繞鍍膜技術(shù)主要應(yīng)用于在聚對(duì)苯二甲酸類塑料、橡膠等柔性基板材料上的鍍膜。比較而言，平面磁控濺射技術(shù)的工藝控制性好、技術(shù)成熟、可靠性高，并可在大面積的玻璃基板上均勻成膜，因此，該工藝在FPD 光電玻璃上的鍍膜應(yīng)用最為廣泛，國(guó)際上工業(yè)化生產(chǎn)ITO 導(dǎo)電玻璃大多采用此工藝。 ②On-Cell 鍍膜 On-Cell 屬于嵌入式觸摸屏的一種，是指將觸摸屏嵌入到顯示屏的彩色濾光片基板和偏光片之間的方法，即在液晶面板上配觸摸傳感器，三星、日立、LG等廠商在On-Cell 結(jié)構(gòu)觸摸屏上進(jìn)展較快。目前，On-Cell 多應(yīng)用于三星AMOLED面板產(chǎn)品上。 由于On-Cell 結(jié)構(gòu)觸摸屏只需在彩色濾光片基板和偏光板之間形成簡(jiǎn)單的透明電極圖案等，因此容易確保成品率，同時(shí)像素內(nèi)的有效顯示區(qū)域的面積也不會(huì)減小，幾乎不會(huì)由此發(fā)生畫(huà)質(zhì)劣化現(xiàn)象。 On-Cell 觸控一體化技術(shù)得到普及，就無(wú)需再使用外置的觸摸面板部件。制造觸摸面板的廠商很有可能從原來(lái)的外置觸摸面板廠商轉(zhuǎn)型為液晶面板和彩色濾光片廠商。產(chǎn)品廠商從觸摸面板廠商手中采購(gòu)?fù)庵貌考脑?yīng)鏈也將有所改變，也將為行業(yè)帶來(lái)On-Cell 鍍膜的新機(jī)遇。 ③In-Cell 抗干擾高阻鍍膜 In-Cell 也屬于嵌入式觸摸屏的一種，它是將觸控線路置于TFT-LCD 內(nèi)部，形成顯示與觸摸一體的液晶面板，原本外置的觸摸面板部件與液晶面板實(shí)現(xiàn)一體化，實(shí)現(xiàn)了面板的薄型化和輕量化。另外，在將觸摸面板外置于液晶的原方式中，液晶和觸摸面板之間存在物理空間，因此，在液晶面板的上面和觸摸面板的下面之間會(huì)反射外來(lái)光線等，導(dǎo)致在室外等明亮的環(huán)境下的可視性降低，外置的觸摸面板部件實(shí)現(xiàn)一體化后，便可抑制在室外等的可視性降低現(xiàn)象。 In-Cell 抗干擾高阻鍍膜技術(shù)屬于首創(chuàng)技術(shù)，是一種替代偏光片式抗干擾防靜電的新技術(shù)，與業(yè)內(nèi)原有技術(shù)相比，此項(xiàng)技術(shù)特點(diǎn)系直接在In-Cell 玻璃基板的表面鍍膜形成，所需技術(shù)、材料一般也無(wú)需依賴進(jìn)口，相較而言，江西沃格光電股份有限公司In-Cell 抗干擾高阻鍍膜較原有方式加工更簡(jiǎn)單、成本更低。 2、行業(yè)技術(shù)特點(diǎn) 隨著信息技術(shù)發(fā)展，消費(fèi)者對(duì)智能手機(jī)、平板電腦等移動(dòng)終端消費(fèi)電子產(chǎn)品輕薄化、大型化的需求越來(lái)越大，F(xiàn)PD 光電玻璃精加工的市場(chǎng)規(guī)模越來(lái)越大，具有十分廣闊的市場(chǎng)前景，這也將帶動(dòng)FPD 光電玻璃精加工行業(yè)技術(shù)快速發(fā)展。 未來(lái)FPD 光電玻璃精加工技術(shù)的發(fā)展特點(diǎn)如下： （1）玻璃薄化技術(shù)發(fā)展特點(diǎn) 近年來(lái)消費(fèi)電子產(chǎn)品“輕、薄化”設(shè)計(jì)的要求日益提高，智能手機(jī)、平板電腦等新興消費(fèi)類電子產(chǎn)品的顯示屏往往只有0.4~0.6mm 的厚度，而傳統(tǒng)的TFT 基板玻璃一般在0.5mm 左右，加上中間填充液晶形成的液晶面板一般達(dá)到1.0mm至1.4mm，目前，液晶面板經(jīng)過(guò)減薄厚度減少50%以上達(dá)到0.4mm 至0.5mm 左右，而且質(zhì)量得到大幅提升。未來(lái)，在高質(zhì)量及輕薄化的需求下，需將液晶面板進(jìn)一步由0.4mm（或以上）厚度薄化至0.3mm 以下。 （2）鍍膜技術(shù)發(fā)展特點(diǎn) ①低電阻ITO 鍍膜技術(shù) ITO 導(dǎo)電玻璃產(chǎn)品由普通TN/STN 型向中高檔TN/STN 型發(fā)展，高檔STN型產(chǎn)品主要為低電阻ITO 導(dǎo)電玻璃，方電阻值通常低于10Ω/cm2，對(duì)ITO 膜層厚度和表面缺陷的要求高，技術(shù)難度大。 ②觸摸屏用ITO 鍍膜技術(shù) 用于觸摸屏的ITO 導(dǎo)電膜玻璃要求高電阻、高電阻均勻性、高透過(guò)率，其中方電阻值為500Ω/cm2 左右，電阻均勻性達(dá)到±10%以內(nèi)，制作難度大。此外，觸摸屏還部分使用聚對(duì)苯二甲酸類塑料等材料，在聚對(duì)苯二甲酸類塑料等材料上鍍ITO 膜則需要采用卷繞鍍膜技術(shù)，技術(shù)要求也非常高。 ③低溫ITO 鍍膜技術(shù) 通常ITO 鍍膜是在玻璃溫度為350℃左右的條件下進(jìn)行。對(duì)于TFT-LCD，因?yàn)橐壕褪軠囟扔邢蓿枰捎玫蜏豂TO 鍍膜技術(shù)，行業(yè)內(nèi)低溫ITO 鍍膜時(shí)溫度通常在100℃以下，同時(shí)為了確保CF 玻璃的ITO 膜層的電阻率、透過(guò)率和耐化學(xué)性等技術(shù)性能，CF 上鍍ITO 膜必須采取專用的低溫ITO 鍍膜技術(shù)。 ④ On-Cell 鍍膜 技術(shù)原理與ITO 鍍膜基本相同，但On-Cell 驅(qū)動(dòng)要求高，電阻25-30Ω，在鍍膜過(guò)程中使用多陰極工藝，為防止觸控線路短路與側(cè)蝕，膜層厚度1300±200，技術(shù)實(shí)現(xiàn)難度較普通ITO 鍍膜大。 ⑤ In-Cell 抗干擾高阻鍍膜 In-Cell 抗干擾高阻鍍膜，是一種替代偏光片式抗干擾防靜電的新技術(shù)，特點(diǎn)在于直接在In-Cell 基板的表面鍍膜形成，具體為在鍍膜前先使用真空等離子清洗，將In-Cell 基板表面在真空中清洗干凈，去除雜質(zhì)，然后利用鍍膜方法，使用特殊鍍膜材料，在過(guò)程中加入氮?dú)?、氧氣等多種反應(yīng)氣體形成一種既具有防觸控信號(hào)干擾又具有防靜電的功能薄膜，電阻達(dá)到10^8Ω，透過(guò)率98%，抗靜電能力達(dá)到8KV 以上，可分為In-Cell 超高組磁控濺射法、In-Cell 超高組線棒濺射法、In-Cell 超高組激光蒸發(fā)鍍膜法等。In-Cell 抗干擾高阻鍍膜技術(shù)難度較高，目前業(yè)內(nèi)掌握該項(xiàng)技術(shù)的企業(yè)非常少。 （3）觸控顯示一體化技術(shù)發(fā)展特點(diǎn) 隨著智能手機(jī)越做越薄，傳統(tǒng)屏幕將會(huì)被逐漸淘汰，而觸摸顯示一體化屏幕則會(huì)成為主流。實(shí)現(xiàn)觸控顯示一體化的方式中，全貼合技術(shù)是目前的發(fā)展趨勢(shì)。 目前市場(chǎng)上常見(jiàn)的全貼合技術(shù)主要是以原有觸控屏廠商為主導(dǎo)的OGS方案，以及由面板廠商主導(dǎo)的On-Cell和In-Cell技術(shù)方案。 OGS（One Gla數(shù)據(jù)來(lái)源：觀研天下數(shù)據(jù)中心整理 Solution）：是近年來(lái)興起的一種在保護(hù)玻璃上直接形成ITO導(dǎo)電膜及傳感器的技術(shù)，直接將觸控功能感應(yīng)線路蝕刻于蓋板玻璃之上，從而減少了一層玻璃基板和一次貼合，因其透光性、輕薄度在普通GF之上，產(chǎn)線投資和產(chǎn)品良率又較內(nèi)嵌式觸摸屏存在一定優(yōu)勢(shì)。OGS的優(yōu)點(diǎn)是技術(shù)成熟后可節(jié)省較多成本，且能減小觸摸屏厚度和重量。目前，OGS各大廠商主要將研發(fā)方向往中大尺寸屏幕上轉(zhuǎn)移。  資料來(lái)源：公開(kāi)資料整理 In-Cell：是將觸控感應(yīng)線路搭載于顯示面板內(nèi)部，在薄膜晶體管陣列基板與彩色濾色膜之間形成的盒內(nèi)部嵌入觸摸傳感器功能，能有效減少光學(xué)膠等多種材料的使用，增加透光性的同時(shí)減少顯示器件的厚度。In-Cell 技術(shù)首次大規(guī)模應(yīng)用在iPhone5 手機(jī)上，并獲得成功。得益于該技術(shù)，iPhone5 與iPhone4S 相比厚度下降18%達(dá)到7.6mm，重量則下降20%達(dá)到112g。隨后，國(guó)內(nèi)大陸地區(qū)多家面板、手機(jī)廠商也大幅進(jìn)軍In-Cell 領(lǐng)域，如華為和樂(lè)視的主打產(chǎn)品均搭載了In-Cell觸控系統(tǒng)。In-Cell 技術(shù)未來(lái)將成為觸摸屏企業(yè)爭(zhēng)取下游客戶資源的有利競(jìng)爭(zhēng)力之一。  資料來(lái)源：公開(kāi)資料整理 On-Cell：是將感應(yīng)線路搭載于顯示面板的彩色濾光片玻璃上表面或 AMOLED 的封裝玻璃上表面，通過(guò)在彩色濾光片和偏光片之間形成簡(jiǎn)單的透明電極圖案嵌入觸摸屏，不但工藝難度相比In-Cell 技術(shù)有所降低，還可確保產(chǎn)品良率，并且有效顯示區(qū)域面積不會(huì)減少，畫(huà)質(zhì)得到提高。On-Cell 技術(shù)最先在三星AMOLED 面板產(chǎn)品上得到使用，并獲得了巨大的市場(chǎng)成功。2014 年韓國(guó)三星公司發(fā)布搭載On-Cell 技術(shù)和柔性AMOLED 技術(shù)的Galaxy 蓋世系列旗艦手機(jī)，顯示分辨率達(dá)到2560×1440。 In-Cell（左）與On-Cell（右）結(jié)構(gòu)對(duì)比（以TFT-LCD 結(jié)構(gòu)為例）  資料來(lái)源：公開(kāi)資料整理 目前，不管是基于OGS、On-Cell 及In-Cell 全貼合技術(shù)的觸控顯示產(chǎn)品，一般前期需要經(jīng)過(guò)薄化、鍍膜等精加工處理，與OGS 觸控屏相比，On-Cell 觸控屏需要在鍍膜基礎(chǔ)上增加一道黃光加工過(guò)程，In-Cell 觸控屏則需要進(jìn)行特別的In-Cell 抗干擾高阻鍍膜加工過(guò)程。 資料來(lái)源：中國(guó)報(bào)告網(wǎng)整理，轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處（GQ） |
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