1.工業(yè)制HNO34NH3+5O2=(催化劑、△)4NO+6H2O (反應條件:800度高溫,催化劑鉑銠合金作用下) 2NO+O2=2NO2 3NO2+O2=2HNO3+NO 2.工業(yè)制H2SO4沸騰爐: 4FeS2+11O2=(高溫)2Fe2O3+8SO2 接觸室: 2SO2+O2?(加熱、催化劑)2SO3 吸收塔: SO3+H2O=(高溫)H2SO4 3. 工業(yè)制HClH2+Cl2=(點燃)2HCl 然后用水吸收,在合成塔內(nèi)完成 4.工業(yè)制燒堿2NaCl+2H2O=(電解)H2↑+Cl2↑+2NaOH 5.工業(yè)制純堿(侯氏制堿法)NH3+H2O+CO2=NH4HCO3 NH4HCO3+NaCl=NaHCO3+NH4Cl(NaHCO3結晶析出) 總:NaCl+NH3+CO2+H2O=NaHCO3+NH4Cl 2NaHCO3=(△)Na2CO3+H2O+CO2 6.工業(yè)制氨氣合成塔: 3H2+N2?(高溫高壓催化劑)2NH3 注:催化劑為鐵觸媒 7. 工業(yè)制玻璃(設備名稱:玻璃窯)Na2CO3+SiO2=(高溫)Na2SiO3+CO2↑ CaCO3+SiO2=(高溫)CaSiO3+CO2↑ 8. 工業(yè)制硅利用反應 SiO2+2C=(高溫) Si+2CO↑ 能得到不純的粗硅。粗硅需進行精制,才能得到高純度硅。 首先,使Si跟Cl2起反應: Si+2Cl2=SiCl4(400 ℃~500 ℃) 生成的SiCl4液體通過精餾,除去其中的硼、砷等雜質(zhì)。然后,用H2還原SiCl4: SiCl4+2H2=(高溫) Si+4HCl這樣就可得到純度較高的多晶硅。 9. 工業(yè)制漂白粉2Cl2+2Ca(OH)2=CaCl2+Ca(ClO)2+2H2O 10. 工業(yè)腐蝕印刷電路板2FeCl3+Cu=2FeCl2+CuCl2 2Fe3++Cu=2Fe2++Cu2+ 11. 工業(yè)制金屬Na2NaCl=(電解)2Na+Cl2↑ 12.工業(yè)制金屬MgMgCl2=(電解)Mg+Cl2↑ 13.工業(yè)制金屬Al2Al2O3=(電解)4Al+3O2↑ 注:催化劑為熔融的冰晶石,化學式為NaAlF6 14.工業(yè)制生石灰、二氧化碳高溫煅燒石灰石: CaCO3=(高溫) CaO+CO2 15.高爐煉鐵Fe2O3+3CO=(高溫)2Fe+3CO2 16.工業(yè)制取水煤氣C+H2O=(高溫)CO+H2 17. 粗銅的精煉電解:陽極用粗銅 陽極:Cu-2e-=Cu2+ 陰極:Cu2++2e-=Cu |
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