我們都知道鋁表面拋光主要是機(jī)械拋光和化學(xué)拋光，而化學(xué)拋光里面又分為電化學(xué)拋光和化學(xué)拋光?；瘜W(xué)拋光是應(yīng)用相對較為廣泛的一種，但它的原理至今卻不能同一觀點，我們來看一下。

化學(xué)拋光是通過添加ht431無煙兩酸拋光劑等拋光溶液對工件微觀凹凸表面的膜層形成及溶解速率不同而達(dá)到拋光的目的。為了使拋光過程中對鋁合金的溶解速率最小，需要膜層的形成速率大于溶解速率，這一目的是通過提高拋光溶液的黏度及溶液中的氧化劑或其他成膜添加劑達(dá)到的。關(guān)于化學(xué)拋光的原理并無一個權(quán)威的解釋，目前有兩種觀點。

一是通過工件在拋光過程中由于擴(kuò)散的控制而形成的氧化膜層或置換層并抑制金屬的溶解速率，達(dá)到研磨的目的。當(dāng)然不管是膜層或是置換層都不可能無限制地生長，在生長的同時也會被溶解。在工件表面的凹凸表面，凹面的膜層或置換層會優(yōu)先一步形成，同時要厚一些。凸面的膜層或置換層會滯后一步形成，同時要薄一些。這是由于凸起面電流集中，活性大，溶解速率較凹面大所致。而這種現(xiàn)象的發(fā)生使鋁合金的凹凸表面產(chǎn)生了腐蝕速率差，化學(xué)拋光正是利用了這種腐蝕速率差來完成對鋁合金表面的整平作用，達(dá)到表面平滑光亮的目的。與此原理相關(guān)的拋光溶液都是濃度高的，比如常用的三酸拋光劑、ht431無煙兩酸拋光劑等，由于這類拋光溶液的黏稠度高及添加物質(zhì)的作用，使其擴(kuò)散速率很低。

二是利用化學(xué)拋光溶液的低濃度來達(dá)到對鋁工件表面低溶解速率的作用并產(chǎn)生研磨效果。這種方法所用的拋光溶液一般都是由稀的硝酸和磷酸組成，鉻酐提供氧化劑，過氧化氫作為氧化劑也屬于此類作用。其拋光原理和上述基本相同，都是通過拋光溶液對鋁合金表面凹凸面的溶解速率差使鋁合金工件經(jīng)拋光后達(dá)到平滑和光亮的目的。

不過概括來講，鋁化學(xué)拋光還是利用酸溶液的腐蝕速度不一來達(dá)到拋光的目的。至于其中的細(xì)節(jié)之處，對于很多生產(chǎn)加工廠家來說并不是那么重要，只要知道其總的作用原理就好了。