仿瓷氧化標(biāo)牌的制作工藝

退休工程師 2010-11-20

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仿瓷氧化標(biāo)牌的制作工藝

仿瓷氧化標(biāo)牌的制作工藝
仿瓷氧化標(biāo)牌。仿瓷陽(yáng)極氧化標(biāo)牌表面呈瓷釉狀，光澤柔和，具有很好的耐抗性能、較高的硬度和耐磨性、良好的絕熱性和電絕緣性、較好的遮蓋能力和較理想的吸附能力，是儀器儀表尤其是高檔機(jī)的裝飾之佳品。但制作過(guò)程中有含鉻的氣體逸出，因此操作設(shè)備上應(yīng)配有較好的抽風(fēng)和通風(fēng)設(shè)備，以免中毒。

仿瓷氧化標(biāo)牌的表面預(yù)處理方式與絲印噴砂氧化嵌漆標(biāo)牌基本相同，只是仿瓷氧化腐蝕標(biāo)牌一般不需進(jìn)行化學(xué)拋光，而直接氧化。仿瓷氧化腐蝕標(biāo)牌、仿瓷氧化染色和仿瓷氧化印刷標(biāo)牌的沖孔加工一般都在氧化前進(jìn)行。
仿瓷氧化腐蝕標(biāo)牌氧化后的工藝與噴砂氧化嵌漆工藝相同，仿瓷氧化染色標(biāo)牌工藝與絲印鋁氧化彩色標(biāo)牌無(wú)異。實(shí)際上由于仿瓷氧化膜表面已有瓷釉樣色彩，因此用于染色的不多。在此講講關(guān)于仿瓷陽(yáng)極氧化方面的內(nèi)容。

仿瓷陽(yáng)極氧化電解液。仿瓷陽(yáng)極氧化的常用配方有下面幾種：

配方1：
CrO330?40g/l；
H3BO31?2g/l。
電流密度2?4A/dm2；
電壓40?50Ⅴ；
溫度40?50℃；
時(shí)間40?60分鐘。

配方2：
CrO335?38g/l；
H3BO30.5?1g/l。
電流密度0.1?0.6A/dm2；
電壓40?50Ⅴ；
溫度38?45℃；
時(shí)間60?80分鐘。

配方3：
CrO335?40g/l；
H3BO35?7g/l。
H2C2O4?2H2O5?12g/l
電流密度0.5?1A/dm2；
電壓35?45Ⅴ；
溫度10?50℃；
時(shí)間10?60分鐘。

配方中各種因素對(duì)膜層質(zhì)量的影響。
a．鉻酸含量：
電解液中，鉻酸含量的多少?zèng)Q定著氧化膜的色澤和膜層形成速度。在無(wú)鉻酸條件下，氧化膜呈半透明狀，其生成速度亦較快；隨著鉻酸含量的增加，膜層的仿瓷效果逐步提高，但氧化膜生長(zhǎng)速度隨這降低。
鉻酸含量達(dá)20克/升時(shí)，膜層生長(zhǎng)速度最慢；鉻酸含量大于20克/升時(shí)，膜層的生長(zhǎng)速度隨其含量的增加而加快；大約在36克/升時(shí)，膜層生長(zhǎng)速度最快，仿瓷效果也比較理想。以后膜層生長(zhǎng)速度隨鉻酸含量的增加而下降，膜層仿瓷效果也逐漸變差。當(dāng)鉻酸含量高于55克/升后，氧化膜的色澤會(huì)降低，并出現(xiàn)侵蝕現(xiàn)象。

b．硼酸含量。
槽液中的添加少量的硼酸，可使氧化膜生長(zhǎng)速度增快，并使膜層向乳白方向轉(zhuǎn)化。硼酸大于10克/升后，氧化膜生長(zhǎng)速度反而下降，且膜層易呈透明霧狀，故硼酸含量一般控制在5?7克/升范圍內(nèi)為好。

c．草酸含量。
氧化膜層的色澤隨著草酸含量的增加而逐步加深，呈草綠色，但當(dāng)草酸含量超過(guò)13克/升時(shí)，膜層的不透明度下降，向透明方向發(fā)展。

d．電壓。
仿瓷陽(yáng)極氧化屬于中高壓氧化，氧化液的電壓一般控制在35?50伏之間。當(dāng)電壓低于30伏，生成的氧化膜層薄且透明；若電壓高于55伏，生成的膜層較厚，表面呈深灰色。

e.溫度。仿瓷陽(yáng)極氧化對(duì)溫度的要求也比較高，溫度低于35℃，不僅膜層生長(zhǎng)速度慢，而且膜層呈半透明狀，仿瓷效果差；溫度高于55℃，膜層的生長(zhǎng)速度下降，膜面粗糙，易疏松粉化、外表向無(wú)光澤灰色轉(zhuǎn)化。因此溫度以控制在15?18℃為佳。

f．時(shí)間。
氧化時(shí)間的長(zhǎng)短對(duì)膜層的厚薄和膜層的色澤都有很大影響。氧化時(shí)間低于30分鐘，膜層外表呈半透明青灰色；在10?60分鐘之間，膜層呈不透明有光澤的瓷釉樣；在70?80分鐘時(shí)，外表向無(wú)光澤灰色轉(zhuǎn)化。可見(jiàn)，氧化時(shí)間掌握在10-60分鐘為宜。

仿瓷陽(yáng)極氧化適用于純鋁、鋁錳合金和鋁美合金等材料。
仿瓷氧化后同樣也需要清洗和封閉。

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